二氧化硅靶材SiO2磁控濺射靶材

二氧化硅(sio₂)靶材 磁控濺射靶材 電子束鍍膜蒸發料
參數說明
支持靶材定制，請提供靶材產品的元素、比例（重量比或原子比）、規格，我們會盡快為您報價！！
產品介紹
二氧化硅（化學式：sio₂）是一種酸性氧化物，對應水化物為硅酸（h₂sio₃）。二氧化硅是硅最重要的化合物之一。地球上存在的天然二氧化硅約占地殼質量的12%，其存在形態有結晶型和無定型兩大類，統稱硅石。
中文名 二氧化硅 熔點 1650(±50)℃
化學式 sio₂ 水溶性 2230℃
分子量 60.08 溶解度 0.012g/100ml(水中)
關于我們
服務項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質量保證，無憂！
產品附件：發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備
質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法gdms或icp光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差，連續長時間濺射易發生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
注 ：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3w/cm2。
我公司主營金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材，歡迎您的垂詢。