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任何電鍍工藝規范都包含兩部分內容:一為工藝配方,銅鍍金,二為工藝條件。配方為鍍液組分及其含量范圍,工藝條件則指按相應配方獲得良好效果應具備的條件要求。若達不到這些要求,鍍金廠家,即使組分維持在允許范圍內,不但達不到應有的效果,而且可能出現本不該有的故障。
與配方有繁有簡一樣,工藝條件要求也有繁有簡。工藝條件的影響有些是所有鍍種的共性,有些則屬于個別工藝必須強調的*特殊要求。與鍍液組分的影響一樣,電鍍工作者熟悉了共性的東西,能一通百通,靈活掌握;對特殊要求則應多問幾個為什么,才能給予充分重視。工藝條件主要包括下述幾方面內容。
單從燒焦而言,特別是對于簡單鹽電鍍,ph 低些為好;但鍍液ph 對鍍液性能的影響是多方面的,應綜合考慮各方面因素后確定較佳ph。比如ph 低時,光亮劑的吸附性能下降,鍍金價格,需用量與消耗量都大增,造成有機雜質增加過快。因鎳價上漲,有的鍍鎳液中主鹽濃度控制得很低,泰州鍍金,這容易使鍍層燒焦,為防止燒焦又要將ph 調得很低;但主鹽濃度低了又會出現光亮整平性下降等其他問題。故ph 過低并非好事。電鍍技術的復雜性之一就在于不能簡單地根據某一種需求而隨意改變配方與工藝條件,而應綜合權衡得失。
電鍍鎳金是通過施電的方式,在焊盤的銅基材上鍍上一層低應力的約 3~5 微米的鎳鍍層,然后再在鎳上鍍上一層約0.01~0.05 微米的薄金;在電鍍液一定的情況下,通過控制電鍍的時間來實現對鍍層厚度的控制。其它的工藝環節如清洗、微蝕等基本與化學鎳金無異。化學鎳金與電鍍鎳金較大的差異就在鍍液的配方以及是否需要電源。對于涂了阻焊膜的裸銅板通常不容易使每個需要鍍的區域都加上電了,則這時只能使用化學鍍。
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