手術室凈化工程公司-大理手術室凈化工程-賽達無塵凈化工程施工

防靜電
潔凈室中由于靜電引起的的事故屢有發生，因此潔凈室的防靜電能力如何已成為評價其質量的一個不可忽視的方面。
所謂靜電，凈化工程手術室，是由于摩擦等原因*了物體中正( )負lt;一）電荷等量的均勻的電中性狀態，而使電荷過剩，物體呈帶電狀態，由于這些電荷平時是不流動的，故稱靜電。
賽達凈化堅持秉承以科技為先導、以市場為導向的科學管理理念，大理手術室凈化工程，憑借規范化管理及的技術力量在食品、藥品、化妝品、微電子等諸多工業領域設計承建了潔凈sc廠房、gmp廠房、無菌室、實驗室及相關配套產品。我們的宗旨：！誠信！！
潔凈室中的溫濕度控制
潔凈空間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的*度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規模集成電路生產的光刻*工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，手術室凈化工程公司，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，潔凈手術室凈化工程，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面難以清除。相對濕度越高，粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發生擊穿。對于硅片生產的濕度范圍為35—45%。
在規劃凈化工程建造時，如何以較小的投入實現做大的效益，完整較大產出，一直是凈化工程設計師非常看重的問題，的經濟設計方案是實現效益較大化的選擇，凈化工程廠家設計方案的優化再優化，更多的是為了在潔凈工程成本核算的控制上，如何有效的控制潔凈工程的成本，一直是凈化工程師們比較苦悶的事情。
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